全息光栅

用光"写"出来的光栅

全息光栅（Holographic Grating）是用两束相干激光的干涉条纹曝光光刻胶、再经显影和刻蚀制成的衍射光栅。机械刻划光栅靠金刚石刀逐条刻线，而全息光栅的所有刻线是一次曝光同时形成的，间距由光的波长和两束光的夹角决定。

制造原理

两束来自同一激光器的光以夹角 2θ 在涂有光刻胶的基底上相交，形成等间距的正弦干涉条纹，条纹周期 Λ = λ / (2 sin θ)。曝光后显影，得到正弦或近正弦轮廓的刻槽；再用离子束刻蚀可以把槽形修整成接近锯齿的"准闪耀"形状，提高某一波段的效率。

记录波长越短、夹角越大，能做出的刻线越密。用紫外激光记录可以制作 3600 线/mm 甚至更高密度的光栅；改变两束光的波前（例如用球面波），还能制作变栅距的平场凹面光栅。

如有定制需求，请联系：姚工，1592-808-9752，mylanview@126.com

与机械刻划光栅的对比

• 杂散光低：刻线间距均匀性极好，没有刀具带来的周期性误差，鬼线基本消失，杂散光可低一到两个数量级。
• 大面积：干涉条纹可以覆盖很大面积，制作大尺寸光栅比机械刻划容易。
• 刻线密度高：可以制作 3600 线/mm 以上的高密度光栅。
• 面形自由：可在凹面上直接记录，或通过非平面波前得到像差校正、平场的凹面光栅。
• 不足：正弦槽形的效率低于闪耀光栅，可通过离子刻蚀改善。

全息光栅特别适合对杂散光要求严格的应用：荧光光谱需要在强激发光旁边检测微弱荧光，拉曼光谱需要抑制瑞利散射的旁瓣，天文光谱要在亮星旁边看暗弱谱线。